HF800

該熱絲化學氣相沉積設備主要用于CVD金剛石厚膜、CVD金剛石涂層、石墨烯、多晶硅薄膜、SiCN薄膜、氫化硅薄膜以及其他化學氣相沉積薄膜材料的大批量生產,其特點如下:
1、采用大面積熱絲陣列平行排布,最大沉積面積可達到200mm*200mm,并且厚度均勻一致;
2、采用逆變直流電源加熱,電壓輸出穩定,穩定度優于0.1%,保證沉積表面溫度波動??;
3、采用先進的機械制造技術和安全可靠的控制系統,其中基片臺升降精度優于0.1mm,基片臺旋轉無級調速,流量計控制精度優于0.5%,保證設備長期穩定工作。
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